식각 용액 재생 시스템

Regeneration system for an etching solution

Abstract

본 발명은 식각 용액 재생 시스템에 관한 것으로, 유리 식각 작업 후 발생하는 식각 폐수에 포함되는 유리 슬러지를 화학적 처리를 통해 결정화한 후 제거하여 식각 용액을 재사용할 수 있도록 함으로써 비용을 저감할 수 있고, 식각 폐수 처리에 따른 공해 발생을 최소화할 수 있도록 한 것이다.

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Patent Citations (4)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2000084570-AMarch 28, 2000Nec Corp, 日本電気株式会社Treatment of fluorine-containing waste water and treating apparatus
    JP-H10118665-AMay 12, 1998Kurita Water Ind Ltd, 栗田工業株式会社Treatment of nh4 type cmp waste solution
    KR-0149156-B1August 17, 1998안덕기, 삼성엔지니어링주식회사Apparatus and method for the treatment of grind waste water
    KR-960011886-B1September 04, 1996남궁혁, 두산유리 주식회사산폐수 무방류 처리방법 및 그 시스템

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